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duv光刻機能生產多少nm
10-13
品牌型號:京之果DUV光刻機系統:n257Duv光刻機能生產最小線寬(即最小特徵尺寸)的大小通常在100奈米左右,但是一些高階的Duv光刻機可以生產出更小的線寬,最小甚至可以到50奈米以下。需要注意的是,不同的Duv光刻機的生產能力可...
euv和duv區別
10-16
品牌型號:iPhone14系統:iOS16.1.2euv和duv區別:1、製程範圍不同。duv:基本上只能做到25nm,Intel憑藉雙工作臺的模式做到了10nm,卻無法達到10nm以下。euv:能滿足10nm以下的晶圓製造,並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。2、發光原理...
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